Datei:Umkehrbelichtung (Halbleitertechnik).svg
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Beschreibung
| Beschreibung |
English: Processing steps for image reveal restist technique in photolithography
Deutsch: Prozessschritte für die fotolithografische Umkehrbelichtungstechnik mit einem speziellen Positivfotolack |
| Datum | |
| Quelle | Eigenes Werk |
| Urheber | Cepheiden |
Lizenz
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|
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Der vollständige Text der Lizenz ist im Kapitel GNU-Lizenz für freie Dokumentation verfügbar. |
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| Version vom | Vorschaubild | Maße | Benutzer | Kommentar | |
|---|---|---|---|---|---|
| aktuell | 14:59, 21. Mär. 2012 | | 1.075 × 850 (61 KB) | Cepheiden | fix |
| 16:55, 25. Dez. 2010 |  | 1.075 × 850 (61 KB) | YMS | More corrections | |
| 16:51, 25. Dez. 2010 |  | 1.075 × 850 (61 KB) | YMS | Typo correction | |
| 12:38, 2. Sep. 2010 |  | 1.075 × 850 (61 KB) | Cepheiden | fixes | |
| 12:32, 2. Sep. 2010 |  | 1.075 × 850 (61 KB) | Cepheiden | {{Information |Description={{en|1=Processing steps for image reveal restist technique in photolithography}} {{de|1=Prozessschritte für die fotolithografische Umkehrbelichtungstechnik mit einem speziellen Positivfotolack}} |Source={{own}} |Author=[[User:C |
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