Tetrabutylorthosilicat

chemische Verbindung

Tetrabutylorthosilicat ist organische Verbindung aus der Gruppe der Kieselsäureester mit 1-Butanol als Alkoholkomponente.

Strukturformel
Strukturformel von Tetrabutylorthosilicat
Allgemeines
Name Tetrabutylorthosilicat
Andere Namen

Tetrabutyloxysilan

Summenformel C16H36O4Si
Kurzbeschreibung

farblose Flüssigkeit[1]

Externe Identifikatoren/Datenbanken
CAS-Nummer 4766-57-8
EG-Nummer 225-305-8
ECHA-InfoCard 100.023.005
PubChem 78500
ChemSpider 70864
Wikidata Q72504704
Eigenschaften
Molare Masse 320,54 g·mol−1
Aggregatzustand

flüssig[1]

Dichte

0,899 g·cm−3[1]

Siedepunkt

275 °C[1]

Löslichkeit

langsame Zersetzung in Wasser[1]

Brechungsindex

1,413 (20 °C)[2]

Sicherheitshinweise
GHS-Gefahrstoffkennzeichnung[1]
Gefahrensymbol

Achtung

H- und P-Sätze H: 315​‐​319​‐​335
P: 261​‐​305+351+338[1]
Soweit möglich und gebräuchlich, werden SI-Einheiten verwendet.
Wenn nicht anders vermerkt, gelten die angegebenen Daten bei Standardbedingungen (0 °C, 1000 hPa). Brechungsindex: Na-D-Linie, 20 °C

Herstellung

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Tetrabutylorthosilicat kann direkt aus Siliciumdioxid hergestellt werden, indem das Siliciumdioxid bei 260 °C mit 1-Butanol und Kaliumhydroxid umgesetzt wird. Dabei dient ein Molekularsieb (3 Å) zur Entfernung des entstehenden Wassers.[3]

Reaktionen

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Tetrabutylorthosilicat wurde als Quelle von Silicium zur Herstellung von strukturierten Formen von Siliciumdioxid verwendet. Es kann beispielsweise zur Herstellung von mesoporösem Silica dienen, wobei größere Poren erhalten werden als bei Verwendung von anderen Siliciumquellen wie Tetramethylorthosilicat oder Tetraethylorthosilicat.[4] Es eignet sich neben anderen Kieselsäureestern auch als Precursor für die Herstellung von kolloidalen mesoporösen Nanopartikeln aus Siliciumdioxid.[5] Daneben eignet es sich für die Atomlagenabscheidung von Hafniumsilicat, wobei Hafnium(IV)-chlorid als Quelle für Hafnium dient.[6]

Einzelnachweise

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  1. a b c d e f g Eintrag zu Tetrabutylorthosilikat in der GESTIS-Stoffdatenbank des IFA, abgerufen am 12. Oktober 2024. (JavaScript erforderlich)
  2. Datenblatt Tetrabutylorthosilicat, 97% bei Sigma-Aldrich, abgerufen am 13. Oktober 2024 (PDF).
  3. Norihisa Fukaya, Seong Jib Choi, Toshio Horikoshi, Sho Kataoka, Akira Endo, Hiroshi Kumai, Minoru Hasegawa, Kazuhiko Sato, Jun-Chul Choi: Direct synthesis of tetraalkoxysilanes from silica and alcohols. In: New Journal of Chemistry. Band 41, Nr. 6, 2017, S. 2224–2226, doi:10.1039/C6NJ03897B.
  4. Kyoung-Ku Kang, Hyun-Ku Rhee: Synthesis and characterization of novel mesoporous silica with large wormhole-like pores: Use of TBOS as silicon source. In: Microporous and Mesoporous Materials. Band 84, Nr. 1-3, September 2005, S. 34–40, doi:10.1016/j.micromeso.2005.05.022.
  5. Hironori Yamada, Chihiro Urata, Yuko Aoyama, Shimon Osada, Yusuke Yamauchi, Kazuyuki Kuroda: Preparation of Colloidal Mesoporous Silica Nanoparticles with Different Diameters and Their Unique Degradation Behavior in Static Aqueous Systems. In: Chemistry of Materials. Band 24, Nr. 8, 24. April 2012, S. 1462–1471, doi:10.1021/cm3001688.
  6. Won-Kyu Kim, Shi-Woo Rhee, Nae-In Lee, Jong-Ho Lee, Ho-Kyu Kang: Atomic layer deposition of hafnium silicate films using hafnium tetrachloride and tetra-n-butyl orthosilicate. In: Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. Band 22, Nr. 4, 1. Juli 2004, S. 1285–1289, doi:10.1116/1.1764819.