Diskussion:RCA-Reinigung

Reinigungsabläufe

Letzter Kommentar: vor 16 Jahren2 Kommentare1 Person ist an der Diskussion beteiligt

Also die Reinigungsabläufe sollten nochmal überarbeitet werden. Derzeit zeigen sie kein klares undkorrektes Bild der Reinigung. --Cepheiden 20:00, 5. Feb. 2007 (CET)Beantworten

Die Reinigungsabläufe sind meist abhängig vom vorherigen/nachfolgenden Prozess eigentlich macht das jeder wie er es braucht Letztendlich wird die klassische RCA Reinigung kaum genutzt sondern nahezu immer modifiziert --Cyberhofi

Das ist (mir) schon klar (steht ja auch schon länger im Artikel), trotzdem sollte der eigentlich Standardprozess doch ordentlich beschrieben werden oder nicht? --Cepheiden 17:52, 7. Mai 2008 (CEST)Beantworten

Frage zum Artikel

Letzter Kommentar: vor 17 Jahren2 Kommentare2 Personen sind an der Diskussion beteiligt

"RCA-clean" ist auch als "Kern"sche Reinigung (wohl nach dem Mitentwickler) bekannt. Mir voellig unbekannt ist der Ausdruck "Huang"-Reinigung. Im Artikel taucht das Wort "Huang" dann auch ueberhaupt nicht mehr auf.

email: kuechler@e-technik.tu-chemnitz.de (nicht signierter Beitrag von 134.109.52.48 (Diskussion) 15:12, 31. Mai 2007 (CEST))Beantworten

Mhh da ist evtl. ein Fehler drin. Der "Huang clean" ist im Prinzip der SC1. Die Kombination von SC1 und SC2 also der RCA nennt man auch "modified Huang clean". Quellen die das Belegen liegen mir derzeit leide rnicht vor. Muss ich mal auf die Suche gehen. Evtl. hilft schon dieser Artikel "Anon 1985, "IMPROVED ORGANIC CLEAN FOR REMOVING CONTAMINANTS ON SEMICONDUCTOR WAFER SURFACES.", IBM technical disclosure bulletin, vol. 27, no. 10 A, pp. 5602-5603."--Cepheiden 16:05, 31. Mai 2007 (CEST)Beantworten

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