Diskussion:PMOS
Die Seite kommt mir geklaut vor von http://www.at-mix.de/pmos.htm
Sollte es nicht heißen: "[...]Da Löcher eine viel kleinere effektive Beweglichkeit aufweisen als Elektronen[...]" ?
Dieser Meinung bin ich auch und habs entsprechend geändert. Des weiteren wird bei uns gelehrt, dass PMOS Transistoren umständlicher herzustellen sind, da die Wafer schwach p-dotiert sind und daher für PMOS extra eine n-dotierte Wanne eingebracht werden muss. Quelle: http://jas.eng.buffalo.edu/education/fab/invFab/index.html und http://sus.ti.uni-mannheim.de/Lehre/DSTVorlesung06/DST06_10_Diode_und_Transistor.pdf
Heutige Verwendung?
BearbeitenDer Artikel behauptet "Heutzutage wird sie nur noch bei einfachen Anwendungen eingesetzt, bei denen es nicht auf die Rechengeschwindigkeit ankommt, z. B. in Taschenrechnern oder Fernbedienungen." Gibt es irgend einen Beleg, dass überhaupt noch jemand reine PMOS-Schaltungen herstellt? Es gibt kaum noch reine NMOS-Produkte, aber PMOS gibt es doch wohl nur noch in CMOS, oder? --Wosch21149 12:31, 22. Feb. 2012 (CET)
Fragen zu Herstellungskosten und HMOS
Bearbeiten- Im Artikel wird behauptet, dass PMOS einfacher herzustellen ist als NMOS, "u.a. durch weniger Lithographieschritte". Gibt es dazu Quellen? Lag es nicht evtl. an dem damals zur Verfügung stehenden Grundmaterial (Waferdotierung)? Denn im Prinzip sollte es gleich viel Schritte erfordern, einen NMOS-Transitor oder einen PMOS-Transistor herzustellen, wenn man entsprechedn vordotierte Wafer hat.
- Wir schreiben, dass PMOS durch "die NMOS- und HMOS-Technik verdrängt" wurde. Wozu wird hier HMOS extra erwähnt, das doch nur eine weiterentwickelte NMOS-Technik ist? Eine entsprechende Entwicklung hätte es sicherlich auf dem PMOS-Gebiet gegeben, wenn sich nicht wegen der höheren Beweglichkeit die NMOS-Technologie durchgesetzt hätte. --Wosch21149 (Diskussion) 17:22, 8. Nov. 2012 (CET)
- Hallo,
- Ja, das mit den Lithografieschritten ist etwas wage und lässt sich für alte PMOS-Transistoren ohne Nitrid-Stress-Schichten usw. nicht halten. Die Lithografieschritte sollten mit entsprechend dotiertem Grundmaterial damals gleich gewesen sein. Stellt sich die Frage warum die Herstellung als einfacher zu kontrollieren und als günstiger gilt? Belege mit konkreten Gründen, konnte ich bislang nicht finden. Dass damals p-dotiertes Substrat einfacher verfügbar war wird ebenfalls nirgendwo als Grund genannt.
- Den Verweis auf HMOS halte ich für günstig, da es eine schnelle Übersicht bis zum Einsatz der CMOS-Technik gibt. Natürlich ist die Angabe ohne weitere Erklärung in Bezug auf NMOS und PMOS verwirrend. Streichung wäre für mich ok.
- Ich streich die Sachen mal--Cepheiden (Diskussion) 18:18, 8. Nov. 2012 (CET)
- OK, danke! Übrigens dein Hinweis, dass es hier um PMOS im Allgemeinen geht und nicht um PMOS-Schaltungen, war gut! --Wosch21149 (Diskussion) 18:32, 8. Nov. 2012 (CET)