Diskussion:Silicon-on-Insulator

Fehler

Der Artikel auf www.computerbase.de enthält mehrere schwerwiegende Fehler. Der Link dorthin wurde entfernt. (nicht signierter Beitrag von 134.94.240.213 (Diskussion) 15:10, 22. Jul. 2008 (CEST))

AMD hat da gar nix entwickelt. AMD lizensiert die Technologie immer. Für den Athlon wurde die Technologie von Motorola (jetzt Freescale) lizensiert, ab dann von IBM. Die haben auch "AMDs" SOI Prozess entwickelt. (nicht signierter Beitrag von 131.246.73.199 (Diskussion | Beiträge) 11:16, 13. Okt. 2009 (CEST))

SOI in der Optik

Kommentar zum revert: SOI in der Optik ist keine Anwendung der SOI-Technik von IBM. Eher wäre es noch der Ursprung. Die Umstrukturierung suggeriert etwas Falsches. Beides sind eigendlich verschiedene Technologien, die aber auf der gleichen Struktur aufbauen. Aktuell denke ich aber, dass es nicht hilfreich ist alles in zwei Aktikel zu trennen. Eine alte Publikation von 1987: http://www.opticsinfobase.org/ol/abstract.cfm?URI=ol-13-2-175 Als Wissenschaftler lege ich Wert darauf, dass Erstveröffentlichungen referenziert werden. Ich habe gerade keine Zeit nach Referenzen zu schauen (sollte ein leichtes sein) und lasse daher den Vermerk fehlender Referenzen drin. -- 129.13.164.134 14:50, 23. Jan. 2012 (CET)

Hallo, nein die Technik dahinter ist dieselbe, das einbringen einer dielektischen Zwischenschicht ca. 500 nm unterhalb der Oberfläche. Was anders ist, ist die Art Dielektrikum-Nutzung, elketrische Isolation bzw. transparente Schicht. Nach deiner Begründung müsste man unterscheiden ob ein Silizium-Wafer für Transistoren oder Mikrosysteme genutzt wird, um nur ein Beispiel zu nennen. Die Publikationen lese ich mir mal bei Gelegenheit durch (hab auf Optics Letters leider keinen Zugriff, mhhh) --Cepheiden 14:59, 23. Jan. 2012 (CET) P.S. als Wissenschaftler solltest du eigentlich gewohnt sein, die von dir eingetragene Information zu belegen.

OK, die Technik ist die selbe, doch zielt der Artikel vielerorts recht stark auf die Anwendung in der Transistorherstellung. Vielleicht hast du ja Vollzugriff bei IEEE. Ein schnelles suchen nach silicon on insulator waveguide ergab beispielsweise das hier (sicher nicht das Bedeutenste zum Thema): http://ieeexplore.ieee.org/search/srchabstract.jsp?tp=&arnumber=69790 . Zu Referenzen in der Wissenschaft: Zum Teil hast du recht, allerdings können die falschen oder inhaltlich falsche Referenzen schnell schlechter sein als fehlende Referenzen. Daher verzichte ich lieber auf eine Referenz, über die ich mich nicht selber umfassend informiert habe. -- 129.13.164.127 15:27, 23. Jan. 2012 (CET)

Das ist allgemein ein gute Einstellung, aber macht eben den Baustein notwendig. ich schau mal bei Zeiten. Den 3-Seiten-Artikel aus Optics Letters hab ich auch mittlerweile :-) Grüße -- Cepheiden 15:33, 23. Jan. 2012 (CET)

Genus von Brechungsindex

Gibt es da eine Anomalie, die dieses Kompositum feminin macht? Falls nicht, sagt der Duden, dass das Wort "Index" maskulin ist und somit auch der "Brechungsindex". --87.133.16.99 17:17, 23. Nov. 2016 (CET)

Abschnitt "Hintergrund und Industrieanforderungen", Satz ohne Zusammenhang

Im Abschnitt "Hintergrund und Industrieanforderungen" passen die letzten beiden Sätze nicht zusammen:

Des Weiteren sind SOI-Substrate je nach Anforderungen für die Variation der SOI-Dicke höher als bei normalen epitaxierten Bulk-Substraten. Diese sollen schätzungsweise 10–15 % der gesamten Herstellungskosten betragen.

Der 2.Satz referenziert etwas (Kosten), das im ersten Satz nicht vorkommen. Soll die beiden Sätze etwa richtig lauten:

Des Weiteren sind _die_Kosten_der_ SOI-Substrate je nach Anforderungen für die Variation der SOI-Dicke höher als bei normalen epitaxierten Bulk-Substraten. Diese _Kosten_ sollen schätzungsweise 10–15 % der gesamten Herstellungskosten betragen.

? fragt --Ruediger (nicht signierter Beitrag von 2001:67C:2D50:0:E94E:8498:859D:349A (Diskussion) 17:17, 9. Jul. 2021 (CEST))

Ja, danke für den Hinweis. --Cepheiden (Diskussion) 21:34, 9. Jul. 2021 (CEST)